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设计信息提高SEM缺陷检测取样效率
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《集成电路应用》2008年 第10期25卷 32-34页
作者：Scott Jansen Stephen Fox Glenn Florence Alexa PerryIBM Microelectronics DivisionHopewell Junction KLA-Tencor Corp.San Jose 
基于设计的分级将来自设计数据的版图信息与检测到的每个缺陷的相对位置结合起来,利用这种方法可提高缺陷帕雷托质量。通过对系统缺陷和有害缺陷进行分级,可以改进SEM检测。
来源：详细信息评论
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