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反应磁控溅射制备SiOx渐变折射率红外梳状滤光片: 收藏
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引用; 《中国激光》2009年第8期36卷 2144-2149页; 作者：宋秋明黄烽李明谢斌王海千姜友松宋亦周中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室USTC-SHINCRON先进薄膜工艺材料联合实验室安徽合肥230026 SHINCRON株式会社品川东京114-0011日本中国科学院深圳先进技术研究院中国科学院香港中文大学深圳先进集成技术研究所广东深圳518055; 梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件,其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更好的光学和机械性能。利用反应磁控溅射工艺,改变沉积SiO_x(0≤x≤2)膜氧化程度,获得折射率从2.74逐渐变化到1.58(λ=1550 nm)的Si...; 梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件,其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更好的光学和机械性能。利用反应磁控溅射工艺,改变沉积SiO_x(0≤x≤2)膜氧化程度,获得折射率从2.74逐渐变化到1.58(λ=1550 nm)的SiO_x渐变折射率薄膜材料。通过调制膜层折射率振幅和引入膜层-外部介质折射率匹配层,成功地设计并制备了具有较好光学性能的SiO_x渐变折射率红外梳状滤光片光学薄膜器件。使用单一的硅溅射靶材,通过改变氧化程度获得可变折射率材料的方法,为特殊光学薄膜器件的制备提供了一种经济实用的工艺路线。; 来源：详细信息评论

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